ウェハレベルトラッキングとは

半導体ウェハは、何百もの工程・装置を、物理的にも移動しながら製造されます。極めて複雑なその製造過程の中で、デバイスメーカーはみな、歩留の向上とプロセスのバラツキ最小化を追求して、不断の努力を続けてきました。様々な取り組みが、ときに組み合わせて実施されています。

特定工程での少数抜取り検査
特定プロセスステップでの装置モニタ

ピンポイントでの検査は特定のロットやプロセスにおける問題発見には有効かもしれません。しかし、未知の問題やプロセスマージンに依存する問題を可視化するためには、そのような限られたサンプルの抽出では、必ずしも適切とは言えません。

Wafer Sleuth は、意図的なウェハの処理順を入れ替えることにより、Fabワイドに、全てのウェハレベルのトラッキング情報を活用して問題点を可視化します。半導体製造工程における全ての工程でのウェハ処理順を記録し、今まで捉えることのできなかった歩留悪化やバラツキの原因を見つけ出します。

プロセスの微細化、回路パターンの複雑化が進むにつれ、プロセスマージンに依存する歩留の問題が多くを占めるようになっています。これらの要因は、検査工程では見つけることが困難です。

Wafer Sleuth の特徴は、このようなこれまで表に出てきにくかった問題 ~プロセスマージンのバラツキによる問題～ を、パーティクルや他の問題と同じように顕在化し、速やかに発見できるようにすることです。

次へ »