Wafer Sleuth のメリット

全工程／全ウェハをトラッキング
Wafer Sleuth は全ての工程における全てのウェハの位置情報(処理順)を管理します。これらの包括的な情報を自動解析することにより、これまで捕らえどころのなかった問題の原因を表面化するのです。Wafer Sleuth はウェハの物理的位置やプロセスの処理順所と最終歩留結果やデバイスとパラメータ特性結果の相関を解析します。この解析により、これまで見えなかった装置に起因する問題 -歩留やバラツキに影響を与える要因- を見つけ出します。

問題解決のスピードアップ
Wafer Sleuth は歩留に関わる問題を顕在化する工数を大幅に低減します。テストデータ（歩留データ、電気特性データ）とウェハ位置情報（物理的な位置、処理順）の分布を高速にプロットし、相関を確認することができます。エンジニアは速やかに問題を特定し、問題のある装置の使用を止め、それ以上NGウェハを作ることを避けることができます。

トラッキングと整合性確保
Wafer Sleuth は個々のウェハレベルでプロセス情報をトラッキングし、その履歴をデータベースに蓄えます。全てのウェハの、全ての装置における位置情報（物理的な位置、処理順）を把握することが、ウェハごとのバラツキ要因を迅速に識別することにつながるのです。また、工程処理前に個々のウェハIDを照合することにより整合性を保ち、誤処理によるトラブルを未然に防ぎます。

立上げ期間の短縮
Wafer Sleuth は問題のあるツールや、電気特性や歩留と相関のあるキーパラメータを手早く発見します。これにより、新しいFab でのライン性能を引き出し、より迅速な製品立ち上げが可能となります。ウェハトラッキング情報により保管された統計的なプロセス制御は、プロセスのバラツキを抑え、歩留やデバイスの電気特性の改善につながります。Wafer Sleuth は工場全体のエンジニアリングをデータベース化することによって、新製品の学習期間を短縮し、速やかな立ち上げに貢献するのです。

潜在的な問題の解決
Wafer Sleuth は、従来、豊富な経験や実験、設計知識なしでは見つけにくかった装置の異常を容易に発見できるようにします。より早く、効果的に、歩留や潜在的な信頼性の問題を発見できるため、小ロット生産ライン/大量生産ラインを問わず効果を発揮します。

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